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【半导体PCM参数监管】Process Control Monitor汇总（1）

Process Control Monitor（简称PCM）是用于监控半导体工艺进展的一种方法。通过测量在晶圆（Wafer）上形成的各种主动（Active）和被动（Passive）器件的电学特性，例如晶体管（Transistor）、电阻（Resistor）、二

为了评估 Active、Poly 和 Metal 层的片电阻，通常使用 Kelvin 型电阻（四端测量）和 Bar 型电阻（两端测量）。1. Kelvin 型电阻：原理：使用恒流源在端子 1-4 施加电流，测量端子 2-3 电压。优势：四端测量可以消除 Con